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美国半导体工业用纯水指标
作者： 北京中科新远环境工程有限公司 发布于：2012-11-13 09:32:47
项 目 Ⅰ级 Ⅱ级 Ⅲ级 Ⅳ级 残渣，mg/L 0.1 0.3 0.3 0.5 TOC，mg/L 0.02 0.05 0.10 0.40 颗粒，粒/L 500 1000 2500 5000 细菌数，个100mL 0 6 10 50 活性硅SiO2，μg/L 3 5 10 40 电阻率MΩ·cm 18.3 17.9 17.5 17.0 阳离子，μg/L 0.2 2.0 5.0 * 铝 Al3+ 0.2 2.0 5.0 * 铵 NH4+ 0.3 0.3 0.5 * 铬 Cr6+ 0.02 0.1 0.5 * 铁 Fe 3+ 0.02 0.1 0.2 * 铜 Cu 2+ 0.02 0.1 0.5 * 锰 Mn 2+ 0.05 0.5 1.0 * 钾 K + 0.1 0.3 1.0 4.0 钠 Na + 0.05 0.2 1.0 5.0 锌 Zn 2+ 0.03 0.1 0.5 * 阴离子，μg/L 0.1 0.1 0.3 * 溴 Br - 0.1 0.1 0.3 * 氯 Cl - 0.05 0.2 0.8 * 亚硝酸根 NO2- 0.05 0.1 0.3 * 硝酸根 NO3- 0.1 0.1 0.5 * 磷酸根 PO43- 0.2 0.2 0.3 * 硫酸根 SO42- 0.05 0.3 1.0 *
