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污水处理 阴床出水HSi03含量偏高的原因是什么？如何处理？
作者： 中科新远 发布于：2013-02-17 14:51:02
污水处理 阴床出水HSi03含量偏高的原因是什么？如何处理？阴床出水中HSi03含量偏高，除了与进水中Na+含量有关外，与再生状况（再生用碱量，浓度，纯度等）及树脂状有关系。
(1)再生用碱量 阴床再生有两个特点：一是由于HSi03不像其他离子，虽然对阴树脂的亲合力较低，但从阴树脂排出时，会发生聚合。因此必须用NaOH使聚合物溶解，才能将
HSi03从树脂层洗脱下来。而洗脱这种聚合HSi03的效果与再生用碱量，特别是保护层的用碱量有关。二是由于HSi03在整个树脂层分布较广，被置换下的速度又比较缓慢，所以需要较长的再生时间。
因此，适当的再生剂用量，不仅能提高阴树脂的交换容量，而且除硅效果也有显著提高。试验证明：只有NaOH用量达到一定比耗时，才能达到比较彻底的除硅效果。用碱量不足，则可能由于除硅不彻底而使阴床出水中HSi03的含量偏高。
(2)再生液浓度偏高‘’再生液浓度对阴床的除硅有两个作用：一是由于强碱性阴离子交换树脂的活动性总的说来较弱，所以在电解质浓度较高的溶液中，其双电层易受压缩，‘再生液中的OH一就很难将阴树脂上吸附的HSi03置换得很彻底。二是当再生液浓度较高时，再生液体积则相对的小，与树脂接触时间也短，再生不易充分，这样也会影响阴床对HSi03的去除，致使出水中HSi03含量偏高。
当采用较稀的再生浓度(0.2%~Oj 5%)或两步再生时，曲于阴离子交换树脂的双电层有所扩张，OH一就可以较充分地将HSi03置换下来，除硅效果也好。
(3)再生剂纯度低 NaOH纯度对阴树脂的再生过程影响较大。工业碱中的杂质大部分为氯化物和铁的氧化物。由于强碱阴树脂对Cl一有较大的亲合力，所以不宜用含有较多Cl一的碱来再生。因为Cl一不仅易于被树脂吸附，而且不易被洗脱下来。当使用含较多Cl一的碱再生时，会使树脂的工作交换容量降低，出水HSi03含量偏高。铁的氧化物则会因其在碱中水解而形成沉淀，而污染了阴树脂。
(4)再生液温度 提高再生碱温度，可以改善对HSi03的
(1)再生用碱量 阴床再生有两个特点：一是由于HSi03不像其他离子，虽然对阴树脂的亲合力较低，但从阴树脂排出时，会发生聚合。因此必须用NaOH使聚合物溶解，才能将
HSi03从树脂层洗脱下来。而洗脱这种聚合HSi03的效果与再生用碱量，特别是保护层的用碱量有关。二是由于HSi03在整个树脂层分布较广，被置换下的速度又比较缓慢，所以需要较长的再生时间。
因此，适当的再生剂用量，不仅能提高阴树脂的交换容量，而且除硅效果也有显著提高。试验证明：只有NaOH用量达到一定比耗时，才能达到比较彻底的除硅效果。用碱量不足，则可能由于除硅不彻底而使阴床出水中HSi03的含量偏高。
(2)再生液浓度偏高‘’再生液浓度对阴床的除硅有两个作用：一是由于强碱性阴离子交换树脂的活动性总的说来较弱，所以在电解质浓度较高的溶液中，其双电层易受压缩，‘再生液中的OH一就很难将阴树脂上吸附的HSi03置换得很彻底。二是当再生液浓度较高时，再生液体积则相对的小，与树脂接触时间也短，再生不易充分，这样也会影响阴床对HSi03的去除，致使出水中HSi03含量偏高。
当采用较稀的再生浓度(0.2%~Oj 5%)或两步再生时，曲于阴离子交换树脂的双电层有所扩张，OH一就可以较充分地将HSi03置换下来，除硅效果也好。
(3)再生剂纯度低 NaOH纯度对阴树脂的再生过程影响较大。工业碱中的杂质大部分为氯化物和铁的氧化物。由于强碱阴树脂对Cl一有较大的亲合力，所以不宜用含有较多Cl一的碱来再生。因为Cl一不仅易于被树脂吸附，而且不易被洗脱下来。当使用含较多Cl一的碱再生时，会使树脂的工作交换容量降低，出水HSi03含量偏高。铁的氧化物则会因其在碱中水解而形成沉淀，而污染了阴树脂。
(4)再生液温度 提高再生碱温度，可以改善对HSi03的
